深圳市规划和自然资源局坪山管理局关于捷佳伟创半导体工艺装备厂区项目（G14304-0279号宗地）总平面图修改事宜的公示

       捷佳伟创半导体工艺装备厂区项目（G14304-0279号宗地）用地位于深圳市坪山区坑梓街道同辉路与金辉路交汇处西南侧，宗地号G14304-0279。该项目于2023年8月1日取得《建设工程规划许可证》（深规划资源建许字 PS-2023-0021号）。现建设单位申请变更该项目的《建设工程规划许可证》，本次变更涉及总平面图修改，根据《中华人民共和国城乡规划法》等相关规定，我局对捷佳伟创半导体工艺装备厂区项目（G14304-0279号宗地）总平面图修改情况公示如下：

       一、主要修改内容

       （一）总平面图修改

       1.修改车行出入口转弯半径；

       2.厂房屋面增加排烟机房、加压送风机房、设备管井；货梯井道参数调整；

       3.增加厂房7层、8层连廊；

       4.宿舍屋面增加人防报警间；调整设备管井尺寸；

       5.调整北侧绿地范围。

       详见附件。

       （二）技术经济指标修改

       该项目总建筑面积增加1137.67㎡，由122557.6㎡调整为123695.27㎡，其中计容积率建筑面积增加1895.99㎡，由89483.46㎡调整为91379.45㎡，其中计规定容积率建筑面积不变，取消分项指标中的宿舍193.93㎡和食堂47.35㎡核减面积，增加到相应规定面积中，宿舍规定面积由12206.07㎡增加为12400㎡，食堂规定面积由1632.65㎡增加为1680㎡，地上核增建筑面积增加1895.99㎡，由425.46㎡调整为2321.45㎡（架空绿化休闲由425.46㎡增加为464.37㎡，新增核增类别架空停车1161.59㎡、屋面楼梯间及机房645.21㎡、垃圾收集间50.28㎡），不计容积率建筑面积（地下核增建筑面积）减少758.32㎡，由33074.14㎡改为32315.82㎡（共用停车库减少354.02㎡，由27104.67㎡改为26750.65㎡；公用设备用房减少583.08㎡，由5969.47㎡改为5386.42㎡；新增核增类别供地下核增空间出地面的公共交通、风井等必要辅助空间178.75㎡。绿地面积/折算绿地面积由892.24㎡/3127.21㎡调整为885.88㎡/3040.62㎡。绿化覆盖率由20.5%调整为20.1%。

       二、公示时间

       2026年10月20日至2026年11月2日（10个工作日，如公示截止日期逢节假日或周末，公示意见收集截止日期顺延至节假日或周末后的第一个工作日。）

       三、公示渠道

       本事项同时在下列网站和实地公示：

       （一）网站公示

       1.深圳市规划和自然资源局门户网站

       https://pnr.sz.gov.cn/

       2.深圳市规划和自然资源局坪山管理局门户网站

       https://pnr.sz.gov.cn/ps/

       （二）实地公示

       1.深圳市规划和自然资源局坪山管理局

       地址：深圳市坪山区坪慧路6号（深圳市规划和自然资源局坪山管理局一楼大厅）

       2.捷佳伟创半导体工艺装备厂区项目（G14304-0279号宗地）施工现场

       地址：深圳市坪山区坑梓街道同辉路与金辉路交汇处西南侧

       四、意见反馈方式

       公示期间，任何单位、组织和个人均可就公示内容提出书面意见或建议，个人提交反馈意见的应当提供真实姓名（须由提交人签名）、有效身份证明复印件、住址及联系方式，单位或组织提交反馈意见的应当加盖公章、提交单位法定代表人、委托代理人的有效身份证明复印件并注明联系人及联系方式。请通过以下渠道书面反馈：

       （一）邮寄。邮寄地址：深圳市坪山区坪慧路6号（深圳市规划和自然资源局坪山管理局）；收件人：钟工；联系电话：0755-28297923；并在信封上注明“捷佳伟创半导体工艺装备厂区项目（G14304-0279号宗地）总平面图修改公示反馈意见”字样（日期以邮戳为准）；

       （二）电子邮件。请将意见发送至邮箱：psglj@pnr.sz.gov.cn（政务邮箱），邮件标题请按照“捷佳伟创半导体工艺装备厂区项目总平面图修改公示反馈意见+姓名（或单位名称）”格式填写。

       公众意见征询截止日期后，我局将按照相关规定对公众意见进行认真研究和处理，按程序审批。

       特此公示。

       附件：项目总平面图

深圳市规划和自然资源局坪山管理局

2026年10月19日